无需EUV光刻机 铠侠全新NIL工艺直奔5nm
发布时间：2021-10-22 11:14:27 所属栏目：数码 来源：互联网
导读：据日媒报道， 日本铠侠自2017年开始与半导体设备厂佳能，以及光罩、模板等半导体零组件制造商DNP合作，在日本三重县四日市的铠侠工厂内研发纳米压印微影技术(NIL)的量产技术，目前铠侠已经掌握了15nm的量产技术，并正在向15nm以下的工艺研发，预计2025年开始
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据日媒报道， 日本铠侠自2017年开始与半导体设备厂佳能，以及光罩、模板等半导体零组件制造商DNP合作，在日本三重县四日市的铠侠工厂内研发纳米压印微影技术(NIL)的量产技术，目前铠侠已经掌握了15nm的量产技术，并正在向15nm以下的工艺研发，预计2025年开始生产
相比于目前已实用化的极紫外光(EUV)工艺而言，NIL工艺不使用EUV光刻机，降低了设备投入成本，并且耗能更低，据称NIL的耗电量可压低至EUV生产方式的10%，并让设备投资降低至40%。
但是NIL在量产上仍有不少问题有待解决，包括更容易因细微尘埃而形成瑕疵等的问题。 （编辑：老榕树站长网） 【声明】本站内容均来自网络，其相关言论仅代表作者个人观点，不代表本站立场。若无意侵犯到您的权利，请及时与联系站长删除相关内容! |
